ISO 23170:2022
p
ISO 23170:2022
74814
недоступно на русском языке

Текущий статус : Опубликовано

ru
Формат Язык
std 1 151 PDF + ePub
std 2 151 Бумажный
  • CHF151
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Preview 

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2022-06
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  •  : 1
  • ISO/TC 201/SC 4
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)