Resumen
This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
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Informaciones generales
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Estado: PublicadoFecha de publicación: 2022-06Etapa: Norma Internacional publicada [60.60]
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Edición: 1Número de páginas: 29
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Comité Técnico :ISO/TC 201/SC 4ICS :71.040.40
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